拓荊科技股份有限公司成立于2010年4月，是由海外專家團隊和中科院所屬企業共同發起成立的國家高新技術企業，專業從事高端半導體薄膜設備的研發、生產、銷售與技術服務。公司多次承擔國家重大專項。2016年、2017年、2019年獲評中國半導體行業協會授予的“中國半導體設備五強企業”稱號。公司于2020年在北京、上海、海寧成立三家子公司。

     公司擁有12英寸PECVD（等離子體化學氣相沉積設備）、ALD（原子層薄膜沉積設備）、SACVD（次常壓化學氣相沉積設備）三個完整系列產品，擁有自主知識產權，技術指標達到國際同類產品先進水平，產品主要應用于集成電路晶圓制造，以及TSV封裝、光波導、Micro-LED、OLED顯示等高端技術領域。公司在北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣等20多個地區的近40條生產線都設有技術服務中心，為客戶提供每周7天，每天24小時的技術服務。

　　公司現有十余名海外專家，結合國內優秀人才，形成了一支以海外專家為帶頭人，以國內技術和管理骨干為基礎的專業隊伍，截止到2020年底，公司員工總數超過320人。拓荊通過多年技術積累，已形成自主知識產權體系，截止到2020年底，累計申請專利超470項，榮膺國家知識產權局頒發的“國家知識產權示范企業(2019-2022)”稱號。

　　公司總部坐落于沈陽市渾南區，占地80畝，擁有現代化辦公大樓及高等級潔凈廠房，總建筑面積達40,000平方米。第一期生產能力可實現年產100臺套，全部投產可達350臺套設備，可以滿足下游客戶增產需求。公司已通過ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證，并擁有覆蓋全球的供應商網絡。